第14章 最大障碍，其实从来都不是技术问题。

而半导体产业，或者芯片的突围……

这个时空里，恐怕也没有任何人此时比卿云更清楚背后的逻辑。

他前世虽然是个教书匠，但他是经过秦天川这样的商道教父调教下出来的真正懂市场懂企业经营的科研人员。

卿云认为，阿美莉卡的各种芯片封锁，其实反而是在帮我们早日实现芯片的自给自足。

这不是什么‘我们智慧的中华儿女早晚有天会自力更生’的盲目自信，而是因为它的每次封锁，都在帮我们进一步解决国产半导体面前最大的障碍。

阿美丽卡，其实真的不懂华国这个文明。

从三个反常识的事实说起。

【国产半导体发展的最大障碍，其实从来都不是技术问题。】

它既不是光刻机，也不是光刻胶，更不是什么其他的技术难点，而是在商业逻辑上。

企业和消费者并不愿意购买国产的芯片，也就是没有市场，这才是华国半导体产业发展的最大障碍。

这是个商业问题，而不是科技问题。

这个结论，很反三观，但却是后世用实际事实验证出来的。

解决‘没有市场’这事，成了破局的关键。

我们总觉得高端芯片高不可攀，但其实它和低端芯片之间，没有特别大的技术鸿沟，从3nm到22nm，都是使用EUV极紫外光刻技术，无非是孔径更小，对材料要求更严格。

而DUV光刻机，波长248nm的可以制造90nm以上的制程，波长193nm的可以实现65纳米甚至45纳米，193波长通过浸入式技术可以实现45纳米以下直至28nm，甚至通过特殊工艺后能实现制造7nm的制程。

所以，从理论上来讲，只要你拥有193nm浸入式光刻技术，通过不断升级迭代，到28nm就没有克服不了的障碍。

即便是28nm之后变成了极紫外光刻，也不过是更进一步的升级，早晚有一天能造的高端产品。

那么，我们2023年拥有什么水平的技术呢？

总听到被卡脖子，是不是给你一种华国芯片技术十分落后的印象？

但实际上，华国是全世界芯片产业链最完善的国家之一。

这就是半导体产业三大战役虽败，但遗留下来的火种。

涂膜、刻蚀、离子注入、测试、封装一应俱全，而且普遍技术先进，达到28乃至14nm，甚至中微的刻蚀机进度已经达到了3nm。

即使最艰难最卡脖子的光刻机，从2008年开始，也只落后于ASML和佳能、尼康，位居全球第四。

有杠精会抬杠了，‘照你这个逻辑，我们早已应该一代代发展出高端芯片了啊？’

问题就出在了‘升级迭代’这事上了。

比如华亭微电子，早在2018年就完成了90nm的光刻机技术认证与检测。

但要知道光刻机的核心指标，不光有精度，还有良品率啊。

而当没有大规模的企业愿意使用它时，这机器能不能高良率地生产出芯片，哪个部分在什么情况下会出现什么问题，我们如何能迭代这些问题，科研人员其实是无从下手的。

其实……

翻开一段尘封的历史，在更早的时候，1991年，华国的光刻机虽然没有超越当时世界最先水平，但是差距并不大，国产的第一台分步投影式光刻机，采用的是436纳米G线光源，精度达到1.25微米，处在世界前列。

当初也不是没有封锁，没有禁运，所以当阿美莉卡和樱花国专家亲眼看到华国独立自主研发出了具有国际一流水平的光刻机，拥有完全的知识产权，惊诧不已，连说：“不可思议！”

这些外国专家离开回国后不久，国际‘巴黎统筹委员会’便宣布：取消对华出口投影光刻机的禁运令。阿美莉卡和樱花这两个当时世界上主要生产“分步投影光刻机”的国家同时宣布，取消对华国的出口禁令，可以向华国出口这类投影光刻机，而且价格非常优惠，成本价供货。

同时，还祭出了一个颇具诱惑力的法宝——‘凡购买本公司光刻机的华国企业，欢迎其领导人来本公司参观访问旅游，来回的机票、酒店住宿和所有的旅行费用，全部由本公司承担’。

此时，国门刚刚打开不久，外面的世界很精彩，对华国企业的负责人很有吸引力，都想找个机会出国去看一看，玩一玩，开开眼界。

于是，原先准备购买华清大学生产的投影光刻机的许多单位纷纷改变主意，来电话说不要了；连原来和华清大学有长期合作关系的华科院半导体所109厂及其他大单位，都纷纷取消了订单，华清大学研发制造的新型自动光刻机没有了市场，也就失去了生存空间。

没法迭代。

于是，徐端颐徐老爷子团队耗费无数心血研制成功的自动光刻机，就此夭折。